투과도가 조절된 태양전지 및 이의 제조 방법

Abstract

본 발명의 일 실시예는, 결정질 실리콘 반도체 기판; 상기 결정질 실리콘 반도체 기판의 제1 면 상에 위치하고, 상기 결정질 실리콘 반도체 기판과 P-N접합을 이루는 제1 층; 상기 제1 층 상에 위치하고, 상기 제1 층과 접속된 제1 전극부; 상기 제1 면과 반대면인 상기 결정질 실리콘 반도체 기판의 제2 면 상에 위치하는 제2 층; 및 상기 제2 층 상에 위치하고, 상기 제2 층과 접속된 제2 전극부;를 포함하고, 상기 결정질 실리콘 반도체 기판은, 상기 제1 면에서부터 상기 제2 면까지 상기 결정질 실리콘 반도체 기판을 관통하는 복수의 홀들을 포함하고, 상기 복수의 홀들은 상기 제1 층, 상기 제2 층, 및 상기 제2 전극부를 관통하도록 연장되어, 적어도 가시광 영역의 모든 광들을 통과시키며, 상기 제1 전극부는 마이크로 그리드 패턴으로 이루어지고, 상기 마이크로 그리드 패턴은 상기 복수의 홀들을 복수의 그룹으로 구획하며, 상기 복수의 그룹에 각각 속하는 상기 복수의 홀들은 일정한 패턴을 형성하고 서로 일정간격 이격된 태양전지를 개시한다.