Dependences of the optical and the electrical properties of 50 nm thick copper films deposited by using an electron beam evaporator on the evaporator’s vacuum conditions
Alternative Title
전자 빔 증착기의 증착 조건에 따른 50 nm 두께 구리 박막의 전기적 특성 및 광학적 특성
박막의 제작은 다양한 연구 및 산업에서, 예를 들면, 반도체 기술 뿐 아니라 생명 공학적 기술에서 많은 응용이 되고 있다. 박막을 더 얇게, 그러면서 품질이 우수하게 만드는 기술은 아직도 중요한 기술적인 문제들이 남아 있는 미지의 연구 분야이다. 특히 금속 박막을 만드는 기술은 나노 광학의 영역에서 많이 사용되며, 얇고 전도도가 크고 (비저항이 작고) 흡수율이 큰 (투과율이 작은) 금속 박막에서 광 집속 현상 및 다양한 표면 플라즈몬 현상이 보다 더 잘 관찰된다는 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 나노 구조물 제작 등 다양한 분야에서 자주 사용되는 금속 박막의 증착 조건을 변화시켰을 때 금속 박막의 품질이 어떻게 달라지는지 전기적, 광학적 분석을 통해 알아보았다. 실제로, 진공도의 차이보다는 펌핑 시간이 박막의 품질에 영향을 크게 미쳤음을 알 수 있었다. 더 좋은 품질의 금속 박막 샘플을 제작하기 위해서는 항상 10$^{-10}$ torr의 진공이 잡혀있는 메인 챔버 외에 추가로 시료를 위한 보조 챔버가 있는 전자 빔 증착기를 이용해야 한다.