Dependences of the optical and the electrical properties of 50 nm thick copper films deposited by using an electron beam evaporator on the evaporator’s vacuum conditions

Abstract

박막의 제작은 다양한 연구 및 산업에서, 예를 들면, 반도체 기술 뿐 아니라 생명 공학적 기술에서 많은 응용이 되고 있다. 박막을 더 얇게, 그러면서 품질이 우수하게 만드는 기술은 아직도 중요한 기술적인 문제들이 남아 있는 미지의 연구 분야이다. 특히 금속 박막을 만드는 기술은 나노 광학의 영역에서 많이 사용되며, 얇고 전도도가 크고 (비저항이 작고) 흡수율이 큰 (투과율이 작은) 금속 박막에서 광 집속 현상 및 다양한 표면 플라즈몬 현상이 보다 더 잘 관찰된다는 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 나노 구조물 제작 등 다양한 분야에서 자주 사용되는 금속 박막의 증착 조건을 변화시켰을 때 금속 박막의 품질이 어떻게 달라지는지 전기적, 광학적 분석을 통해 알아보았다. 실제로, 진공도의 차이보다는 펌핑 시간이 박막의 품질에 영향을 크게 미쳤음을 알 수 있었다. 더 좋은 품질의 금속 박막 샘플을 제작하기 위해서는 항상 10$^{-10}$ torr의 진공이 잡혀있는 메인 챔버 외에 추가로 시료를 위한 보조 챔버가 있는 전자 빔 증착기를 이용해야 한다.