본 발명은 메탈 구조물 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 제1 헤비메탈층; 상기 제1 헤비메탈층 상에 형성되는 자성층; 및 상기 자성층 상에 형성되는 제2 헤비메탈층을 포함하고, 상기 제2 헤비메탈층은, 상기 제2 헤비메탈층과 상기 자성층이 접합되어 있지 않는 제1 영역과, 상기 제2 헤비메탈층과 상기 자성층이 접합되어 있는 제2 영역을 포함하며, 상기 자성층에 자기장이 인가될 때 상기 제1 영역에 스커미온(Skyrmion)이 형성되는 것을 특징으로 한다.