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김태성

Kim, Taesung
Microfluidics & Nanomechatronics Lab.
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DC Field Value Language
dc.contributor.assignee 울산과학기술원 -
dc.contributor.author 김민석 -
dc.contributor.author 김태성 -
dc.date.accessioned 2024-01-23T20:10:34Z -
dc.date.application 2013-07-15 -
dc.date.available 2024-01-23T20:10:34Z -
dc.date.registration 2014-04-24 -
dc.description.abstract 본 발명은, 미세채널 제조방법 및 이에 의하여 제조된 미세채널을 구비하는 미세채널블록에 관한 것으로, 중앙에 적어도 하나의 노치를 갖는 패턴이 형성된 포토마스크를 준비하는 단계; 및 감광물질이 도포된 기재 상에 상기 포토마스크를 구비하고, 포토 리소그래피(photo lithography) 공정을 통해 제1 몰드블록을 제조하되, 상기 제1 몰드블록에 크랙을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 크랙을 형성하는 단계는, 상기 기재의 상면에 상기 감광물질을 도포하는 코팅단계; 상기 감광물질이 도포된 상기 기재 상에 상기 포토마스크를 구비하고, 빛을 조사하는 노광단계; 및 상기 노광된 상기 감광물질을 현상하는 단계를 포함하고, 상기 노광단계 및 상기 현상단계를 거치면서, 상기 노치로부터 미세채널 형성을 위한 크랙이 발생 및 전파된다. -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2013-0082739 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-1390700 -
dc.identifier.uri https://scholarworks.unist.ac.kr/handle/201301/71712 -
dc.title.alternative Method for making fine channel -
dc.title 미세채널 제조방법 -
dc.type Patent -
dc.publisher.country KO -
dc.type.iprs 특허 -

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