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- Park, Hyung Wook
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Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.assignee | 울산과학기술원 | - |
| dc.contributor.author | 김지수 | - |
| dc.contributor.author | 박형욱 | - |
| dc.date.accessioned | 2024-01-23T19:06:01Z | - |
| dc.date.application | 2017-12-21 | - |
| dc.date.available | 2024-01-23T19:06:01Z | - |
| dc.date.registration | 2019-06-13 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명의 일실시예에 따르면, 내부에 플라즈마가 형성되는 챔버; 상기 챔버내에 위치하며 시료를 수용하는 스테이지; 캐소드 및 애노드를 포함하는 가속 전극 및 솔레노이드 코일을 포함하며 상기 플라즈마를 통하여 상기 스테이지상에 펄스빔을 조사하는 전자총 및 상기 전자총 및 상기 스테이지를 제어하는 제어부를 포함하며, 상기 제어부는 상기 가속 전극의 전압을 20kV 내지 25kV로 조절하는 금속 표면 처리 장치를 제공한다. | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2017-0176928 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1990921 | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.unist.ac.kr/handle/201301/70306 | - |
| dc.title.alternative | APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SURFACE OF METAL | - |
| dc.title | 금속 표면 처리 장치 및 방법 | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
| dc.type.iprs | 특허 | - |
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