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장지현

Jang, Ji-Hyun
Structures & Sustainable Energy Lab.
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DC Field Value Language
dc.contributor.assignee 울산과학기술원 -
dc.contributor.author 김광현 -
dc.contributor.author 장지현 -
dc.date.accessioned 2024-01-23T19:05:47Z -
dc.date.application 2017-02-21 -
dc.date.available 2024-01-23T19:05:47Z -
dc.date.registration 2019-01-10 -
dc.description.abstract 본 발명은 폴리헤드랄 올리고머 실세스퀴옥산(POSS) 기반의 고투명성 포토레지스트 및 이를 이용한 초후막 3D 나노구조체에 관한 것으로서, 상기 포토레지스트는 (a) 에폭시기를 함유하는 아크릴 단위, 및 (b) POSS기를 함유하는 아크릴 단위를 반복단위로서 갖는 공중합체를 포함한다. -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2017-0022839 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-1939358 -
dc.identifier.uri https://scholarworks.unist.ac.kr/handle/201301/70262 -
dc.title.alternative HIGHLY TRANSPARENT POSS-BASED PHOTORESIST FOR ULTRATHICK 3D NANOSTRUCTURES -
dc.title 초후막 3D 나노구조체를 위한 POSS 기반의 고투명성 포토레지스트 -
dc.type Patent -
dc.publisher.country KO -
dc.type.iprs 특허 -

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