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- Jang, Ji-Hyun
- Structures & Sustainable Energy Lab.
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초후막 3D 나노구조체를 위한 POSS 기반의 고투명성 포토레지스트
- Alternative Title
- HIGHLY TRANSPARENT POSS-BASED PHOTORESIST FOR ULTRATHICK 3D NANOSTRUCTURES
- Application Date
- 2017-02-21
- Registration Date
- 2019-01-10
- Application No.
- 10-2017-0022839
- Publication No.
- 10-1939358
- Abstract
- 본 발명은 폴리헤드랄 올리고머 실세스퀴옥산(POSS) 기반의 고투명성 포토레지스트 및 이를 이용한 초후막 3D 나노구조체에 관한 것으로서, 상기 포토레지스트는 (a) 에폭시기를 함유하는 아크릴 단위, 및 (b) POSS기를 함유하는 아크릴 단위를 반복단위로서 갖는 공중합체를 포함한다.
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